Kuinka monta nanometriä konfokaalimikroskoopilla näkee?
Materiaalitieteen tavoitteena on tutkia materiaalin pintarakenteen vaikutusta sen pintaominaisuuksiin. Siksi pinnan topografian analysointi korkealla resoluutiolla on tärkeää pinnan karheuteen, heijastaviin ominaisuuksiin, tribologisiin ominaisuuksiin ja pinnan laatuun liittyvien parametrien määrittämiseksi. Konfokaalitekniikat pystyvät mittaamaan materiaaleja, joilla on erilaisia pintaheijastavia ominaisuuksia, ja saamaan tehokkaita mittaustietoja.
Konfokaalitekniikan periaatteeseen perustuva laserkonfokaalimikroskooppi on tarkastuslaite mikro- ja nanomittakaavaan erilaisten tarkkuuslaitteiden ja materiaalien pinnoille. Suuri mittausresoluutio saavuttaa 0,5 nm.
Sovellukset
1.MEMS
Mikroni- ja alimikronisten komponenttien mittamittaus, pintamorfologian havainnointi eri prosessien jälkeen (kehitys, syövytys, metallointi, CVD, PVD, CMP jne.), vikaanalyysi.
2. Tarkkuusmekaaniset komponentit, elektroniset laitteet
Mikroni- ja submikronisten komponenttien mittamittaus, pintamorfologian havainnointi eri pintakäsittelyprosessien jälkeen, juotosprosessit, vikaanalyysit, hiukkasanalyysit.
3.Puolijohde/LCD
Pintatopografian havainnointi eri prosessien jälkeen (kehitys, etsaus, metallointi, CVD, PVD, CMP jne.), vikaanalyysi Kosketuksettomien viivojen leveyden, askelsyvyyden jne. mittaus.
4. Tribologia, korroosio ja muu pintatekniikka
Hankausjälkien tilavuusmittaus, karheuden mittaus, pinnan topografia, korroosio ja pintatopografia submikronin pintasuunnittelun jälkeen.
Tekniset ominaisuudet
Malli: VT6100
Iskualue: 100*100*100mm
Näkökentän alue: 120 × 120 μm ~ 1,2 × 1,2 mm
Korkeusmittauksen toistettavuus (1σ): 12nm
Korkeusmittauksen tarkkuus: ± (0.2+L/100) μm
Korkeusmittauksen resoluutio: 0,5 nm
Leveysmittauksen toistettavuus (1σ): 40 nm
Leveyden mittaustarkkuus: ± 2 %
Leveysmittauksen resoluutio: 1nm
